遠紫外成像光譜儀的若干關鍵技術

1、遠紫外成像光譜儀與一般色散型成像光譜儀的主要不同點在于其波段的特殊性，必須使用特殊的材料和器件。下面分別從窗121材料、光源、遠紫外探測器以及遠紫外鍍膜等方面對遠紫外成像光譜儀的關鍵技術進行分析。

2、能夠透射遠紫外波段輻射的窗I=I材料很少且難于制造和加工。氟化鎂(MgF2)是一種應用于遠紫外波段的很好的窗口材料和鍍膜保護材料，其透射范圍為l15-8 500nln；如果要達到105 am，則需選用氟化鋰(LiF)作為窗口材料。

3、為了對研發(fā)的成像光譜儀進行實驗和定標，一般選擇能夠輻射出115-200 nm遠紫外光的燈作為標準光源，如帶有MgF2窗口的惰性氣體燈或空心陰極燈等。

4、應用于遙感領域的遠紫外成像探測器要求在115-200 nm光譜波段有極高的靈敏度。需要采用特殊紫外光陰極材料(如CsI，CsTe)和多層堆疊MCP構成高增益的像增強器，制成遠紫外二維高增益ICCD成像探測器以滿足成像光譜探測的要求。

5、鋁以其高反射系數(shù)的特點常被用作這一波段的反射鍍膜材料。為了防止鋁膜氧化，可以鍍一層或多層MgF2保護膜，這樣可以顯著提高鋁的反射系數(shù)，通過設計MgF2保護膜的厚度，可以在遠紫外波段得到盡可能高的反射率。